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超声波清洗机机器人发展历程
作者:永乐国际ag厅  来源:永乐国际f66官网  时间:2020-08-07 11:16  点击:

  或许未来某一天,超声波清洗机机器人发展施工现场会是这样的场景:一群机器人“操作工”爬上爬下、里里外外、不辞辛劳地忙活着,它们时而爬上百层高楼,时而钻进黑漆漆的弥漫着异味的储罐,互相配合,活儿干得精确、高效而有序。而人类操作工只需要喝着茶检查工作进程即可。

  这样的场景并非幻想。工业清洗施工***早几乎全是人工操作,脏乱差的环境、高空作业、接触毒性溶剂、清洗对象为易燃易爆物质等对工人们是家常便饭。后来逐渐实现机械化,这些问题仍然或多或少地存在。智能机器人的出现,使清洗机器人有望登上行业舞台,跟清洗操作员们抢一抢“饭碗”。

  超声波清洗机机器人属于一种特殊的智能服务机器人,一般工作在非结构性环境中,作业对象是附着或者粘附在物体表面的污垢。与一般的工业机器人相比,清洗机器人的性能要更好、智能化程度要更高才能胜任工作。

  1966年,日本化工机械技术服务株式会社研制出世界***台清洗机器人,用于清扫核电站炉心内壁面的附着物。20世纪80年代,多种清洗机器人相继出现并得到初步应用。美国、英国、俄罗斯、德国、以色列等国也开发了多种爬壁清洗机器人。这其中有能清洗飞机和建筑物的“清洗巨人”,有清洗效率达到1000m2/h的清洗高手。时至今日,国外清洗机器人技术已经发展到很高水平。清洗机器人逐渐服务于人们日常生活的方方面面,并带来了巨大的社会效益和经济效益。

  超声波清洗机机器人发展起步较晚,但发展很快。从1987年上海大学率先开展爬壁清洗机器人研究至今,上海大学、哈尔滨工业大学、北京航空航天大学、上海交通大学、中国蓝星化学清洗总公司、深圳市馨园坤实业发展有限公司、北京东方杰晨环保科技有限公司先后研发了多款壁面清洗、管道清洗机器人。

  ***工程大学副教授周利坤指出,超声波清洗机机器人研究在满足移动速度快、清洗效率高、清洗效果好、稳定性好、操作简单灵活、能够快速可靠避障的基本前提下,应尽可能做到外型美观、结构紧凑、尺寸适宜、造价低廉和智能化程度高等。这就需要在吸附和移动、清洗技术、传感技术、定位、导航和路径规划等五大关键技术领域取得进一步突破。

  周利坤认为,清洗机器人是目前国内外机器人领域研究和应用的热点,未来清洗机器人有4个研究方向,多机器人系统、多传感器融合系统、变胞机器人、能够完成选择性清洗以及特殊环境(如储油罐等封闭、高危物体)下的清洗任务的机器人

  在半导体材料的制备过程中,每一道工序都涉及到清洗,而且清洗的好坏直接影响下一道工序,甚至影响器件的成品率和可靠性。由于ULSI集成度的迅速提高和器件尺寸的减小,对于晶片表面沾污的要求更加严格,ULSI工艺要求在提供的衬底片上吸附物不多于500个/m2×0.12um,金属污染小于 1010atom/cm2。晶片生产中每一道工序存在的潜在污染,都可导致缺陷的产生和器件的失效。因此,硅片的清洗引起了专业人士的重视。

  2概要编辑以前很多厂家都用手洗的方法,这种方法人为的因素较多,一方面容易产生碎片,经济效益下降,另一方面手洗的硅片表面洁净度差,污染严重,使下道工序化抛腐蚀过程中的合格率较低。所以,硅片的清洗技术引起了人们的重视,找到一种简单有效的清洗方法是当务之急。着重介绍硅片超声波清洗技术,其清洗硅片的效果显著,是一种值得推广的硅片清洗技术。

  3目的编辑晶片表面层原子因垂直切片方向的化学键被破坏而成为悬空键,形成表面附近的自由力场,尤其磨片是在铸铁磨盘上进行,所以铁离子的污染就更加严重。同时,由于磨料中的金刚砂粒径较大,造成磨片后的硅片破损层较大,悬挂键数目增多,极易吸附各种杂质,如颗粒、有机杂质、无机杂质、金属离子、硅粉粉尘等,造成磨片后的硅片易发生变花、发蓝、发黑等现象,使磨片不合格。硅片清洗的目的就是要除去各类污染物,清洗的洁净程度直接决定着ULSI向更高集成度、可靠性、成品率发展,这涉及到高净化的环境、水、化学试剂和相应的设备及配套工艺,难度越来越大,可见半导体行业中清洗工艺的重要性。

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